采用软开关技术开关电源的干扰之一是来自功率开关管通/断时的du/dt，小雷军因此，减小功率开关管通/断的du/dt是抑制开关电源干扰的一项重要措施。

米米（E）SiO2@SL-mTiO2核-壳纳米结构的氮吸附等温线和孔径分布。【成果简介】近日，晚上万复旦大学的赵东元院士(通讯作者)课题组首次采用限域界面胶束组装法，晚上万在不同材料表面上精准的涂覆了一层锐钛矿TiO2，为有序介孔晶体材料的涂覆打开了一扇新的大门。

这些介孔来自于胶束的自组装，欠费亲自而不是纳米晶体的堆积。（B）在1.0Ag-1的电流密度下，道歉第1,2,10，20，50和100次循环的充放电曲线。（O-Z）具有涂层的单层TiO2介孔从1D到3D不同纳米材料的TEM图像（O-T）和相应的结构模型（U-Z），小雷军（O）碳纳米管，小雷军（P）氧化石墨烯，（Q）碳纳米球，（R）CdS纳米线，（S）ZnS纳米片和（T）α-Fe2O3椭球，所有比例尺均代表200nm。

虽然TiO2具有与SiO2非常相似的溶胶-凝胶反应，米米但钛的电负性低且配位数高，米米钛前驱体有着很高的活性，高活性钛前体在精确控制界面上TiO2的溶胶-凝胶化学方面仍然存在巨大困难。在此之前，晚上万已经开发了许多策略来实现这些目标

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